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氨氣凈化塔
氣體在線監(jiān)測預(yù)處理系統(tǒng)
技術(shù)方案
一、概況
根據(jù)貴方提出的氨氣凈化塔測量需求，公司所推出的SK-7500-GAS-JY型、SK-7500-GAS-SSY型氣體在線監(jiān)測預(yù)處理系統(tǒng)可以連續(xù)監(jiān)測硫酸霧、NH3、HCL等多項相關(guān)參數(shù)。
固定污染源氣體在線監(jiān)測預(yù)處理系統(tǒng)是東日瀛能科技針對環(huán)境中固定污染源的煙氣、廢氣等氣體進(jìn)行實時在線監(jiān)測的一種氣體檢測產(chǎn)品；是集氣體采樣、氣體過濾、氣體降溫除濕、流量控制、實時濃度顯示、無線數(shù)據(jù)上傳、環(huán)保聯(lián)網(wǎng)、本地聲光報警、設(shè)備聯(lián)動等功能為一體的標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、專業(yè)化揮發(fā)性氣體檢測儀系統(tǒng)集成產(chǎn)品；產(chǎn)品采用專業(yè)三防設(shè)計，直接戶外使用；氣體在線監(jiān)測預(yù)處理系統(tǒng)經(jīng)主動采樣、專業(yè)樣氣預(yù)處理后，將干凈、干燥、恒定的樣氣送至氣體檢測儀表。具體反應(yīng)速度更快、抗干rao能力更強(qiáng)、測量更精準(zhǔn)、壽命長久等特點；無線HJ 212協(xié)議數(shù)據(jù)上傳，可無縫對接當(dāng)?shù)丨h(huán)保監(jiān)測平臺；因其zhuo越性能和良好表現(xiàn)，不僅可以作為企業(yè)內(nèi)的有組織或無組織的氣體排放使用，還可以為環(huán)保監(jiān)測等部門提供數(shù)據(jù)決策支持。
SK-7500-GAS-JY 氣體在線監(jiān)測預(yù)處理系統(tǒng)適用于常溫（-20℃～+50℃）、高壓、負(fù)壓、潮濕、含焦油、含粉塵的監(jiān)測環(huán)境。（根據(jù)具體工況而定）
SK-7500-GAS-Y 固定污染源氣體在線監(jiān)測預(yù)處理系統(tǒng)適用于高溫（-20℃～+200℃）、高壓、潮濕、含油、含水、含粉塵的惡劣監(jiān)測環(huán)境。（根據(jù)具體工況而定）
二、執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)
GB3836.1-2010《爆炸性氣體環(huán)境用電氣設(shè)備 第一部分：通用要求》
GB3836.2-2010《爆炸性氣體環(huán)境用電氣設(shè)備 第二部分：隔爆型“d" 》
GB 3836.15-2000 《爆炸性氣體環(huán)境用電氣設(shè)備第 15 部分：危險場所電氣安裝( 煤礦除外) 》
GBT50493-2019 《石油化工可燃?xì)怏w和有毒氣體檢測報警設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)》
GB12358-2006 《作業(yè)場所環(huán)境氣體檢測報警儀通用技術(shù)要求》
GBZ 2.1-2007 《工作場所有害因素職業(yè)接觸限值》
GB 4208-2008 《外殼防護(hù)等級（IP 代碼）》
GB 16297－1996《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》
GB/T 16157-1996《固定污染源排氣中顆粒物測定與氣態(tài)污染物采樣方法》
HJ/T 76-2017《固定污染源排放煙氣連續(xù)監(jiān)測系統(tǒng)技術(shù)要求及檢測方法》
三、設(shè)計方案
3.1監(jiān)測參數(shù)
在線監(jiān)測因子：HCL、硫酸霧、氨氣等參數(shù)可定制。
3.2監(jiān)測方法
廢氣采樣方法：泵吸取樣
HCL、硫酸霧、氨氣監(jiān)測原理：電化學(xué)
3.3安裝位置
廢氣與顆粒物采樣點：氨氣凈化塔
分析儀表：戶外站房或雨棚
3.4公用工程條件
廢氣監(jiān)測設(shè)備電源：220VAC，50HZ，200瓦 用于設(shè)備供電。4-20MA、RS485等多種信號輸出，既可方便接入 PLC、DCS、DDC 等工控系統(tǒng)，也可以作為單機(jī)控制使用；
顆粒物監(jiān)測設(shè)備電源：24VDC
該裝置為機(jī)、電、儀一體化成套分析控制裝置。包含取樣探頭、探頭反吹、取樣管線、預(yù)處理單元、機(jī)柜等部分；系統(tǒng)整體采用分析機(jī)柜式結(jié)構(gòu)，成套裝置由分析機(jī)柜組件和安裝在工藝管線上的取樣探頭組件構(gòu)成。（根據(jù)具體工況而定）
3.5.1分析機(jī)柜組件
分析機(jī)柜內(nèi)包含以下單元：
a.預(yù)處理單元
預(yù)處理單元由冷凝器、蠕動泵、電磁閥、抽氣泵、減壓閥、精細(xì)過濾器、轉(zhuǎn)子流量計等組成；其功能是完成樣氣的凈化、除塵、穩(wěn)壓、穩(wěn)流。最后將符合分析儀要求的干凈、流量穩(wěn)定的被測樣氣，源源不斷送入分析儀器，從而確保了分析儀器的準(zhǔn)確性和長期可靠性。
b.分析單元
分析儀采用電化學(xué)法對SO2、NOX進(jìn)行測量，采用PID光離子法對TVOC進(jìn)行測量。
c.控制單元
本系統(tǒng)采取自動取樣、自動反吹等工作方式，可以搭配工廠中的風(fēng)機(jī)、閥門、噴淋系統(tǒng)等設(shè)備來使用，通過內(nèi)部開關(guān)量信號實現(xiàn)聯(lián)動。此外，其監(jiān)測數(shù)據(jù)還可以通過專用配套軟件實時接收，并且可以實現(xiàn)多路統(tǒng)一管理以及數(shù)量的擴(kuò)充。存儲的數(shù)據(jù)還可以任意選取時間段進(jìn)行查詢，曲線顯示，數(shù)據(jù)EXCEL導(dǎo)出等，使得監(jiān)測數(shù)據(jù)一目了然。
3.5.2氣體污染物采樣器
煙氣氣態(tài)污染物采樣器（以下簡稱取樣探頭）
3.5.3不銹鋼氣體污染物檢測儀
名稱 | 不銹鋼氯化氫檢測儀、不銹鋼硫酸霧檢測儀、不銹鋼氨氣檢測儀 |
型號 | SK/MIC-600-HCL-SSY、SK/MIC-600-H2SO4-SSY、SK/MIC-600-NH3-SSY |
檢測原理 | 電化學(xué)/PID光離子 |
檢測量程 | HCL：0-100ppm，NH3:0-100ppm，H2SO4:0-20mg/m3 |
線性度 | ±1.5%F.S. |
示值誤差 | ≤±3% |
重復(fù)性 | <±1%F.S. |
零點漂移 | <±1%F.S. |
量程漂移 | <±1%F.S. |
工作溫度 | -20～50℃ |
響應(yīng)時間（T90） | <30秒 |
輸出信號 | ①4-20mA信號：標(biāo)準(zhǔn)的12位精度4-20mA輸出芯片，傳輸距離1000m ②RS485信號：采用標(biāo)準(zhǔn)MODBUS RTU協(xié)議，傳輸距離1200m ③電壓信號：0.4-2V,0-5V、0-10V輸出，選配（電壓輸出與電流輸出二選一） ④開關(guān)量信號：標(biāo)配1組無源觸點繼電器，容量220VAC 3A/24VDC 3A ⑤GPRS、4G、WIFI、LORA、ZigBee等無線信號 |
接收設(shè)備 | 用戶電腦、控制報警器、PLC、DCS、DDC等 |
防護(hù)等級 | IP66 防水濺和短時間雨淋，長時間雨淋需選配防雨罩或選擇不帶顯示的外殼 |
3.6系統(tǒng)控制及數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)
3.6.1系統(tǒng)界面與數(shù)據(jù)儲存、導(dǎo)出
在線監(jiān)控系統(tǒng)是本公司自行開發(fā)的針對煙氣連續(xù)排放連續(xù)監(jiān)控系統(tǒng)。本系統(tǒng)實時監(jiān)測從分析儀傳輸過來的數(shù)據(jù)，存儲到數(shù)據(jù)庫，可選配顯示當(dāng)前的排放率、排放總量及系統(tǒng)報表顯示與輸出。
可通過485接口采集濃度數(shù)據(jù)，并實現(xiàn)存儲、匯總、報表輸出、向數(shù)采儀發(fā)送數(shù)據(jù)等功能。
對于比較簡單的應(yīng)用，例如脫硫效率監(jiān)測，分析儀可以將數(shù)據(jù)直接通過4-20mA或485發(fā)送的PLC/DCS等工控系統(tǒng)。
四、系統(tǒng)配置清單
序號 | 貨品名稱 | 型號規(guī)格 | 數(shù)量 | 備注 |
1.煙氣在線監(jiān)測預(yù)處理系統(tǒng) | ||||
1.1 | 抽取式預(yù)處理機(jī)柜 | 高效過濾器 | 1套 | |
采樣泵 | 1套 | |||
降溫除濕冷凝器 | 1套 | 選配 | ||
轉(zhuǎn)子流量計 | 1套 | |||
漏電開關(guān) | 1套 | |||
24V電源 | 1套 | |||
蠕動泵 | 1套 | 選配 | ||
散射風(fēng)扇 | 2套 | 選配 | ||
節(jié)流閥 | 2套 | |||
減壓閥 | 1套 | 選配 | ||
7寸觸摸顯示屏 | 1套 | 選配 | ||
標(biāo)定氣接口 | 1套 | 選配 | ||
反吹電磁閥 | 1套 | 選配 | ||
1.2 | 氣體污染物分析儀 | SK/MIC-600-NY | 1套 | |
1.3 | 軟管 | ￠6 | ||
1.4 | 伴熱管 | \ | 30米 | 選配 |
2.系統(tǒng)控制及數(shù)據(jù)采集子系統(tǒng) | ||||
2.1 | 無線傳輸模塊 | \ | 1個 | 選配 |
2.2 | 數(shù)采儀 | \ | 1個 | 選配 |
東日瀛能可燃?xì)怏w檢測報警器量程參照法規(guī)：
關(guān)于有毒有害氣體接觸限值與其濃度多少時對人體的危害等相關(guān)問題，請咨詢東日瀛能銷售人員。
常用氣體選型表
檢測氣體 | 量程 | 允許 誤差值 | 最小讀數(shù) | 響應(yīng)時間T90 |
可 燃?xì)?/span>(E X) | 0-100%LEL | ＜±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤10秒 |
可 燃?xì)?/span>(E X) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.1%Vol | ≤10秒 |
甲 烷(C H4) | 0-100%LEL | ＜±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤10秒 |
甲 烷(C H4) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.1%Vol | ≤10秒 |
氧 氣(O 2) | 0-30%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤10秒 |
氧 氣(O 2) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤10秒 |
氧 氣(O 2) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氮 氣(N 2) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤10秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤25秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-1000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤25秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤25秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-20000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤25秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-100000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤25秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-500ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤20秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤20秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤20秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-50000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-20%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤30秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤30秒 |
甲 醛(CH 2O) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
甲 醛(CH 2O) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
甲 醛(CH 2O) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
甲 醛(CH 2O) | 0-1000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤45秒 |
臭 氧(O 3) | 0-1ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤20秒 |
臭 氧(O 3) | 0-5ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤20秒 |
臭 氧(O 3) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤20秒 |
臭 氧(O 3) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤20秒 |
臭 氧(O 3) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
臭 氧(O 3) | 0-30000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
臭 氧(O 3) | 0-20mg/L | ＜±3%(F.S) | 0.01mg/L | ≤30秒 |
臭 氧水(O 3) | 0-20mg/L | ＜±3%(F.S) | 0.01mg/L | ≤30秒 |
硫化 氫(H 2S) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
硫化 氫(H 2S) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫化 氫(H 2S) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫化 氫(H 2S) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
硫化 氫(H 2S) | 0-10000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤45秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-20ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-500ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-10000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
一氧 化氮(N O) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
一氧 化氮(N O) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
一氧 化氮(N O) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
一氧 化氮(N O) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤25秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤25秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-1000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
氮氧 化物(N OX) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氮氧 化物(N OX) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氮氧 化物(N OX) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氯 氣(CL 2) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
氯 氣(CL 2) | 0-20ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氯 氣(CL 2) | 0-200ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氯 氣(CL 2) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-1000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-100%LEL | ＜±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤10秒 |
氫 氣(H 2) | 0-100%LEL | ＜±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤10秒 |
氫 氣(H 2) | 0-1000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氫 氣(H 2) | 0-20000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氫 氣(H 2) | 0-40000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氫 氣(H 2) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤20秒 |
氦 氣(H e) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤20秒 |
氬 氣(A r) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤20秒 |
氙 氣(X e) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤20秒 |
氰化 氫(H CN) | 0-30ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氰化 氫(H CN) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氯化 氫(H CL) | 0-20ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氯化 氫(H CL) | 0-200ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
磷化 氫(P H3) | 0-5 ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
磷化 氫(P H3) | 0-25 ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
磷化 氫(P H3) | 0-2000 ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
二氧 化氯(CLO 2) | 0-1ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
二氧 化氯(CLO 2) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
二氧 化氯(CLO 2) | 0-200ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
環(huán)氧 乙烷(ET O) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
環(huán)氧 乙烷(ET O) | 0-1000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
環(huán)氧 乙烷(ET O) | 0-100%LEL | ＜±3%(F.S) | 1%LEL | ≤30秒 |
光 氣(C OCL 2) | 0-1ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤20秒 |
光 氣(C OCL 2) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤20秒 |
硅 烷(Si H4) | 0-1ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
硅 烷(Si H4) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氟 氣(F 2) | 0-1ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
氟 氣(F 2) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氟 氣(F 2) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氟化 氫(H F) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氟化 氫(H F) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
溴化 氫(HB r) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
(B2 H6) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
砷化 氫(As H3) | 0-1ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
砷化 氫(As H3) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
砷化 氫(As H3) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
鍺 烷(Ge H4) | 0-2ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
鍺 烷(Ge H4) | 0-20ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
聯(lián) 氨(N 2 H4) | 0-1ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
聯(lián) 氨(N 2 H4) | 0-300ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
四氫 噻吩(TH T) | 0-100mg/m3 | ＜±3%(F.S) | 0.01 mg/m3 | ≤60秒 |
溴 氣(B r2) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
溴 氣(B r2) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
溴 氣(B r2) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
乙 炔(C2H 2) | 0-100%LEL | ＜±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤30秒 |
乙 炔(C2H 2) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
乙 炔(C2H 2) | 0-1000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
乙 烯(C2 H4) | 0-100%LEL | ＜±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤30秒 |
乙 烯(C2 H4) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
乙 烯(C2 H4) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
乙 醛（C2 H4O） | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
乙 醇(C2 H6O) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
乙 醇(C2 H6O) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
甲 醇(C H6O) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
甲 醇(C H6O) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
二硫 化碳(C S2) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
二硫 化碳(C S2) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
丙烯 腈(C3 H3N) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
丙烯 腈(C3 H3N) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
甲 胺(C H5N) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
典 氣(I 2) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
苯乙 烯(C8 H8) | 0-200ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
苯乙 烯(C8 H8) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氯乙 烯(C2H3 CL) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
三氯 乙烯(C2H CL3) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
四氯 乙烯(C2 CL4) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
笑 氣(N 2O) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
三氟 化氮(N F3) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
過氧 化氫(H 2O 2) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-30000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-200g/m3 | ＜±3%(F.S) | 0.1g/m3 | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-10000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
C6 H6 | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
C6 H6 | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
C6 H6 | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
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